上海稷以科技有限公司成立于2016年，总部位于上海张江高科技园区。公司专注于等离子体技术在半导体制造、新材料合成和表面处理等领域的应用研究与产业化。
通过持续的技术创新，为全球半导体和先进制造行业提供高效、可靠的等离子体技术解决方案，推动产业升级和技术进步。我们致力于成为等离子体技术领域的全球领导者，为客户创造卓越价值。
公司以"创新、专业、协作、责任"为核心价值观，建立了完善的质量管理体系和技术研发体系。我们与多家国内外知名高校和研究机构保持长期合作关系，确保技术始终处于行业前沿。
公司成立，专注于等离子体基础研究
首台等离子体清洗设备研发成功，获得第一项发明专利
获得国家高新技术企业认证，年营收突破5000万元
建立完整的半导体设备生产线，产品出口至欧美及亚洲市场
专业员工
专利技术
服务客户
国家地区
提供高精度、高均匀性的等离子体刻蚀解决方案，适用于硅、化合物半导体、介质材料等多种材料的微纳加工。设备采用先进的射频匹配技术和实时工艺监控系统，确保工艺稳定性和重复性。
高效去除有机污染物、氧化物和颗粒，提高材料表面活性和粘附性。广泛应用于半导体封装、MEMS制造、光学元件和医疗器械清洗。
等离子体增强化学气相沉积系统，用于沉积高质量氮化硅、二氧化硅、非晶硅等薄膜材料。设备具有优异的薄膜均匀性和重复性，适用于光伏、显示和半导体行业。
提供石墨烯、碳纳米管、二维材料等先进材料的等离子体合成与改性服务。通过等离子体技术实现材料的可控生长和性能调控。
根据客户特定需求，提供从工艺开发、设备设计到系统集成的全方位定制服务。我们的工程团队具有丰富的行业经验，能够快速响应客户需求。
提供7×24小时在线技术支持、定期设备维护、备件供应和工艺优化服务。我们在全国设有多个服务网点，确保快速响应客户需求。
稷以科技拥有自主研发的先进等离子体源技术，包括电感耦合等离子体(ICP)、电容耦合等离子体(CCP)和微波等离子体(MP)等多种技术路线。我们的核心技术团队在等离子体物理、射频工程和真空技术领域拥有超过20年的积累。
通过独特的电极设计和匹配网络优化，我们的等离子体设备能够在更宽的工艺窗口内保持稳定放电，显著提高了工艺的可重复性和设备可靠性。专利的等离子体均匀性控制技术确保在300mm晶圆上实现优于±2%的均匀性。
密度可达1012 cm-3
离子能量可控范围5-500eV
工艺温度低至室温
等离子体建立时间<100ms
拥有48项国内外专利，包括12项发明专利，形成了完善的知识产权保护体系。
研发团队占比超过35%，核心成员来自国内外知名院校和科研机构，博士硕士占比60%。
与复旦大学、上海交通大学、中科院等机构建立联合实验室，推动前沿技术产业化。
为其12英寸先进生产线提供20台等离子体刻蚀设备，用于逻辑芯片制造中的多重图案化工艺。
提供PERC电池生产线用PECVD设备，沉积背面钝化叠层膜，显著提升电池转换效率。
提供定制化等离子体清洗和刻蚀解决方案，用于惯性传感器和压力传感器的微结构加工。
我们的技术专家将为您提供专业的产品咨询和解决方案建议。请填写右侧表格或直接通过以下方式联系我们：
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